이재용(사진) 삼성전자 부회장이 20일 경기도 화성사업장의 극자외선(EUV) 공정 전용 반도체 생산라인을 방문했다. 지난달 새해 첫 공식 일정으로 반도체 초미세공정 개발 현장을 찾았던 이 부회장이 신종 코로나바이러스감염증(코로나19) 확산 속에서도 현장을 직접 점검하며 ‘시스템 반도체 세계 1위’라는 사업 의지를 재차 강조한 것으로 해석된다.
삼성전자에 따르면 이 부회장은 이날 “지난해 우리는 이 자리에 시스템 반도체 세계 1등의 비전을 심었고 오늘 긴 여정의 첫 단추를 꿰었다”며 “이곳에서 만드는 작은 반도체에 인류사회 공헌이라는 꿈이 담길 수 있도록 도전을 멈추지 말자”고 당부했다. 삼성전자는 지난해 4월 ‘반도체 비전 2030’을 발표하며 133조원 투자, 1만5000명 채용 등 시스템 반도체 생태계 육성 계획을 밝힌 바 있다.
이 부회장이 찾은 V1 라인은 2018년 초 건설을 시작해 지난해 하반기 완공, 이달 본격 가동된 삼성전자의 첫 EUV 전용 라인이다. 초미세공정을 기반으로 7나노(㎚)부터 3나노 이하 차세대 시스템 반도체 파운드리(위탁생산) 제품이 주력으로 양산된다. 앞으로 5G·인공지능(AI)·자율주행 등 4차 산업혁명 관련 기술 시장이 커지면서 반도체 생산 핵심기지로서 중요한 역할을 할 것으로 전망된다.
삼성전자가 새로 도입한 EUV 노광 기술은 파장이 짧은 극자외선 광원을 이용해 웨이퍼에 반도체 회로를 새기는 기술이다. 기존의 불화아르곤(AnF)을 이용한 기술보다 세밀한 회로 구현이 가능하다. 현재 파운드리 업체 중 7나노 이하 공정 기술은 삼성전자와 글로벌 1위 기업인 대만의 TSMC만 보유하고 있다.
삼성전자는 이 첨단 공정 기술을 바탕으로 퀄컴, 바이두 등 대형 팹리스(반도체 회로 설계) 업체와 협력을 추진하며 모바일부터 HPC(고성능 컴퓨팅) 분야까지 파운드리 영역을 확대해나가고 있다. 삼성전자는 올해 시스템 반도체 부문에서 타 업체들과 ‘초격차’를 벌려 나간다는 포부다.
앞서 이 부회장은 올해 첫 현장경영으로 지난달 화성사업장 내 반도체 연구소를 찾아 3나노 공정 기술 관련 보고를 받았다. 업계 관계자는 “이 부회장이 잇따라 현장을 방문한 것은 ‘반도체 비전 2030’에 대한 확고한 의지를 보여준다”고 말했다.
김성훈 기자 hunhun@kmib.co.kr
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