일본의 수출규제로 기술독립의 중요성이 커진 가운데 정부출연연구소의 기술지원을 받은 국내 중소기업이 반도체 공정장비 코팅소재의 국산화에 성공했다. 그동안 해당 코팅소재는 일본에서 전량 수입해왔다.
국가핵융합연구소와 세원하드페이싱은 미세 분말 상태에서도 뭉치지 않는 용사 코팅 소재 ‘이트륨 옥사이드’를 제조하는 데 성공했다고 29일 밝혔다.
용사 코팅은 분말 상태의 재료를 제품의 표면에 분사해 코팅하는 기술이다. 작고 유동성이 좋은 분말일수록 품질이 좋으나 크기가 작아질수록 분말이 엉키는 문제가 있었다.
이번에 개발된 이트륨 옥사이드는 핵융합연구소의 플라스마 기술을 적용해 분말의 크기가 25㎛(1㎛는 1000분의 1㎜)임에도 불구하고 뭉치지 않는다. 크기와 유동성 모두 일본산을 뛰어넘는다.
국가핵융합연구소 홍용철 박사는 “플라스마 기술은 반도체 공정 말고도 다양한 소재 산업에 활용할 수 있다”라며 “이를 활용한 소재 기술 국산화 연구를 지속할 계획”이라고 말했다.
이홍근 인턴기자
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