이성규 오하이오대 석좌교수, 美 과학·공학 명예의 전당 한국인 최초로 입회

화학공학 분야의 세계적인 석학으로 꼽히는 이성규(61·사진) 미국 오하이오대 석좌교수가 토머스 에디슨, 라이트 형제 등이 가입돼 있는 ‘미국 과학·공학 명예의 전당(ESHF·Engineering & Science Hall of Fame)’에 한국인 최초로 입회한다.

30일(현지시간) ESHF에 따르면 이 교수는 대체 에너지 개발에 중요한 계기를 마련한 초임계 유체기술을 개발, 실용화한 공로를 인정받았다. 이 교수와 함께 개인 휴대전화를 발명한 마틴 쿠퍼, 댐의 홍수 조절체계를 설계한 아더 모건 등이 올해 ESHF 입회자로 선정됐다. 이들 3명의 입회식은 14일 미 오하이오주 데이턴에 위치한 ESHF 엔지니어클럽에서 열린다.

이 교수는 경기고, 서울대 화학공학과, 동대학원 화공학 석사과정을 졸업한 ‘토종’ 과학자로, 화공학도에게 입문서나 다름없는 ‘화공학백과’ 등 11권의 저서를 출간했으며 미국 특허 35건, 국제 특허 85건을 갖고 있다.

백민정 기자 minj@kmib.co.kr



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