중국 국영 기업인 상하이마이크로일렉트로닉스(SMEE)가 자체 개발한 반도체 28나노(㎚, 10억분의 1m) 노광장비를 연내 출시할 예정이라고 중국 매체가 보도했다. 미국의 반도체 수출 통제에 맞서 기술 자립을 강조하고 있는 중국은 SMEE 성과에 큰 기대를 거는 분위기다.
3일 홍콩 사우스차이나모닝포스트(SCMP)에 따르면 중국 증권일보는 SMEE가 올 연말 심자외선(DUV) 노광장비 SSA/800-10W를 시장에 인도할 것으로 예상된다고 보도했다. 노광은 극자외선(EUV) 등 빛을 이용해 웨이퍼에 회로를 새기는 공정이다. 회로를 미세하게 새길수록 웨이퍼에서 생산할 수 있는 고성능 반도체칩 수가 많아져 노광장비의 중요성이 커지고 있다.
2002년 설립된 SMEE는 중국 유일의 노광장비 제조 업체다. 현재는 미세공정과는 거리가 먼 90나노급을 주로 판매하고 있다. SMEE는 2016년부터 28나노 노광장비 개발에 나섰지만 성공했다는 공식 발표는 아직 없었다. 2020년부터 SMEE의 심자외선 노광장비가 곧 출시될 것이라는 소문이 돌다가 흐지부지되는 일이 반복됐다. 이번 보도에도 SMEE는 공식 입장을 밝히지 않아 연말 출시 여부는 좀 더 지켜봐야 한다는 지적이 나온다. 중국 매체들이 자국의 반도체 자립을 대대적으로 홍보하고 있다고 보는 시각도 있다.
미국은 지난해 12월 SMEE를 비롯해 YMTC(양쯔메모리) 등 중국 반도체 기업 36곳을 수출 통제 목록에 추가했다. 또 세계 최대 노광장비 기업인 네덜란드의 ASML이 미국산 부품을 다수 사용한다는 점을 내세워 ASML의 최첨단 노광장비의 대중 수출도 금지했다. ASML은 7나노 이하 미세공정 반도체 생산에 필수적인 EUV 노광장비를 독점 생산하고 있다.
SCMP는 “중국 노광장비와 세계 최고 업체 간 격차는 10년 이상”이라며 “중국이 반도체 성숙공정에서만 일정 수준의 자립을 달성했으므로 미국 일본 네덜란드의 수출 통제는 중국 업체에 큰 영향을 미칠 것”이라고 지적했다.
베이징=권지혜 특파원 jhk@kmib.co.kr
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