특허청은 다음달 1일 ‘2022년 한·중·일 디자인포럼’을 온라인으로 개최한다고 28일 밝혔다.
각국 특허청이 매년 돌아가며 개최하는 포럼은 올해 일본 특허청이 주최한다.
포럼은 ‘국제경제 확장 및 웹 3.0시대에서의 디자인 보호’라는 주제로 개최된다. 헤이그 협정으로 지난 5월부터 중국이 국제디자인출원제도에 합류함에 따라 3국에 디자인을 동시 출원할 때 알아야 할 각국 디자인 제도와 심사 실무를 공유한다.
또 각국 산업계 연사를 초청해 메타버스·대체불가토큰(NFT) 등 신기술과 디자인, 웹 3.0시대에 대응하는 업계 동향 등을 다룬다.
온라인 포럼은 사전신청을 통해 누구나 참석 가능하며 각국 언어가 동시통역으로 제공된다.
목성호 특허청 상표디자인심사국장은 “최근 중국·일본의 디자인 관련 법과 제도 및 산업계 동향을 파악할 수 있는 좋은 기회”라며 “관심 있는 분들의 많은 참여를 바란다”고 말했다.
대전=전희진 기자 heejin@kmib.co.kr
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