특허청은 13일 인터컨티넨털 서울 코엑스에서 ‘기술유출범죄와 양형기준 학술 세미나’를 개최했다.
더불어민주당 이학영 의원·한국지적재산권변호사협회와 공동으로 개최한 이번 세미나는 양형기준의 관점에서 기술유출범죄를 근절할 수 있는 방안 및 개선점을 논의하기 위해 마련됐다.
세미나는 기술유출범죄와 양형기준의 현황·문제점을 살피고 패널토론 및 질의응답 순으로 진행됐다.
국정원에 따르면 2016년 1월부터 지난 6월까지 해외 기술유출로 인한 경제적 피해는 최소 20조원 이상으로 추정된다.
반면 기술유출 사건의 기소율은 일반 형사사건(40%)의 절반 수준인 20.5%에 불과하고 무죄율도 20배(기술유출 19.4%, 일반형사 0.8%)이상 높다.
유죄로 인정돼도 최대 15년인 형량의 절반에도 미치지 못하는 6년에 불과하다.
이학영 국회 산업통상자원중소벤처기업위원장은 “형사처벌을 강화한 법 개정 취지를 달성하기 위해 양형기준도 그에 맞게 조정돼야 할 것”이라며 “국회도 기술유출 방지를 위해 필요한 법과 제도 마련에 최선을 다 하겠다”고 말했다.
김용래 특허청장은 “기술유출이 국가의 경제와 안보는 물론 기업의 생존을 위협하는 중대한 범죄라는 인식이 자리 잡아야한다”며 “기술유출을 중대범죄로 인식해 15년 이상의 중형을 선고하는 미국 사례를 참고할 필요가 있다”고 했다.
대전=전희진 기자 heejin@kmib.co.kr
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