특허청이 5일 오후 2시 한국지식재산센터 19층 국제회의실에서 특허 침해 규정 개정안 관련 공청회를 개최한다.
3일 특허청에 따르면 이번 공청회는 법조계, 기업체 특허담당자, 교수, 변리사 등 각종 특허 관련 인사들이 참석해 토론을 진행한다. 참석은 사전등록 없이 누구나 가능하다.
현재 대부분의 국가는 특허권자의 허락 없이 특허발명의 기술을 그대로 실시하는 행위를 ‘직접침해’로, 특허발명의 주요 부품을 생산해 직접침해가 될 가능성이 높은 행위를 ‘간접침해’로 규정하고 있다.
그동안 미국과 유럽·일본 등은 산업 환경 변화에 따라 간접침해의 범위를 지속적으로 확대해 왔지만, 우리나라는 1973년에 마련한 간접침해 규정의 기본틀을 현재까지 유지하는 탓에 특허권자에 대한 보호가 취약하다는 비판이 제기됐다.
이번 간접침해 개정안은 전용물(專用物)이 아닌 경우에도 간접침해의 적용 대상으로 삼을 수 있도록 하는 것이 골자다.
하지만 이에 대한 무분별한 적용을 막기 위해 적용 대상을 핵심부품으로 한정하고, ‘특허발명에 사용되는 것을 아는 경우에만 적용’하도록 했다.
이와 함께 특허발명에 사용되는 것을 알면서 특허제품의 3D 프린팅 데이터를 정보통신망을 통해 제공하는 행위를 침해로 규정, 보다 실효성 있는 특허 보호가 가능하게 했다.
천세창 특허청 특허심사기획국장은 “이번 개정은 특허권자에 대한 적극적인 보호 강화의 일환으로 진행됐다”며 “개정안이 산업계 등에 미치는 영향이 큰 만큼, 간담회나 공청회로 의견을 수렴해 최종안을 확정할 것”이라고 말했다.
대전=전희진 기자 heejin@kmib.co.kr
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