삼성전자는 업계 최초로 10나노 로직 공정 양산을 시작한다고 17일 밝혔다. 10나노 공정으로 만든 모바일 AP는 내년에 출시되는 갤럭시S8에 탑재될 것이 유력하다.
삼성전자는 지난해 1월 모바일AP에서 업계 최초로 14나노 공정 양산을 시작한 데 이어, 이번에는 전체 시스템 반도체 업계에서 가장 먼저 10나노 공정 양산에 돌입했다
이번에 양산을 시작한 10나노 1세대 공정은 기존 14나노 1세대 대비
성능은 27% 개선하고, 소비전력은 40%를 절감했으며 웨이퍼당 칩 생산량은 약 30% 향상됐다.
10나노 공정 양산을 위해서는 14나노 공정보다 훨씬 정교하고 미세한 회로를 그려넣는 패터닝 작업이 필요한데, 삼성전자는 기존 장비를 활용해 패터닝 과정을 세번 반복하는 트리플패터닝 기술을 적용 미세공정의 한계를 극복하고 설계 유연성을 확보했다.
삼성전자는 10나노 1세대(10LPE) 공정 양산을 시작으로 성능을 향상시킨 2세대(10LPP) 공정을 2017년 양산 목표로 개발 중이며, 2세대 이후에도 지속적인 성능개선과 파생공정 확대를 통해 10나노 공정을 장기간 활용할 계획이다.
또한 삼성전자는 고객 및 파트너사와의 협업을 통해 10나노 공정의 디자인 설계 툴을 검증하고, 고객들이 제품을 개발하는 데 도움을 주는 제품 레벨 디자인 키트와 IP 디자인 키트를 제공하는 등 파운드리 에코시스템을 확대해 나가고 있다.
김준엽 기자 snoopy@kmib.co.kr
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