SK하이닉스-도시바 반도체 나노 기술 공동 개발

SK하이닉스가 일본 도시바와 손잡고 차세대 반도체 나노 공정 기술을 공동 개발한다. 양사 협력을 위해 도시바는 SK하이닉스를 상대로 제기한 1조원대 손해배상 소송을 전격 취하키로 했다.

SK하이닉스는 도시바와 함께 나노임프린트 리소그래피(NIL·Nano Imprint Lithography) 기술 개발에 착수한다고 19일 밝혔다. NIL은 미세 패턴을 구현하는데 적합한 차세대 공정기술이다. 공동 기술 개발을 위해 도시바는 지난 3월 SK하이닉스를 상대로 일본 법원에 청구한 1조1000억원 규모의 민사소송을 취하키로 했다. SK하이닉스는 도시바에 2억7800만 달러(한화 3056억원)를 지급키로 하고 소송 취하에 합의했다. 앞서 도시바는 일본 검찰이 전 SK하이닉스 직원을 부정경재방지법 위반 혐의로 기소하자 자사의 정보를 활용했다며 SK하이닉스를 상대로 민사소송을 제기한 바 있다.

SK하이닉스와 도시바는 반도체 특허 상호 라이선스 계약과 제품 공급 계약도 연장해 특허 분쟁을 막기로 했다. 양사는 2007년에 특허 상호 라이선스 계약을 체결하고 2011년부터는 차세대 메모리인 ‘STT-M램’의 공동 개발을 진행해왔다.

SK하이닉스와 도시바는 NIL 기술 개발 성공 가능성을 높이는 동시에 기술 상용화를 통해 메모리 제품의 원가 경쟁력을 향상 시킬 것으로 기대하고 있다. SK하이닉스는 D램 시장에서 세계시장 점유율 2위이고, 도시바는 낸드플래시 부문에서 시장 점유율 2위 차지하고 있다.



김유나 기자 spring@kmib.co.kr


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